三氟化氮主要用途是用作氟化氢－氟化气高能化学激光器的氟源，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，所 HF-OF激光器是化学激光器中极有希望的激光器。三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅蚀刻，采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择...
三氟化硼应用领域介绍：1、主要用作有机反应催化剂，如酯化、烷基化、聚合、异构化、磺化、硝化等。铸镁及合金时的防氧化剂。是制备卤化硼、元素硼、硼烷、硼氢化钠等的主要原料。2、在许多有机反应和石油制品中，作为冷凝反应的催化剂，BF3及化合物在环氧树脂中用作固化剂。可作为制备光纤预制件的原料。3、主要用于半导体器件和集成电路...
乙烯注意事项：密闭操作，完全通风。操作人员必须经过专门培训，严格遵守操作规程。建议操作人员穿防静电工作服。远离火种、热源，工作场所严禁吸烟。使用防爆型的通风系统和设备。防止气体泄漏到工作场所空气中。避免与氧化剂接触。在传送过程中，钢瓶和容器必须接地和跨接，防止产生静电。搬运时轻装轻卸，防止钢瓶及附件破损。配备相应品种和...
近年来，随着我国半导体工业的快速发展，四氟化碳气体排放量逐年増加，直接排放会造成空气污染，甚z人体吸入高浓度的四氟化碳会出现呼吸困难、呕吐等窒息症状。那么四氟化碳气体怎么处理？四氟化碳废气处理由于四氟化碳是目前微电子工业中用量z大的等离子蚀刻气体，因而四氟化碳废气主要产生于半导体产业生产工艺等离子蚀刻。目前，半导体产业...
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